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Prodotti
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verniciatore a dip verticale a controllo programmabile
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Trasferimento automatico Roll to Roll Film macchina di rivestimento con forno di essiccazione per elettrodi della batteria
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Laboratorio automatico grande pellicola Coater con vuoto Chuck e racla regolabile
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Placcatrice per fustelle da tavolo da laboratorio per rivestimento a film sottile ad alta precisione
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Macchina di rivestimento intermittente dell'elettrodo della batteria per la linea di produzione
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Macchina per rivestimento a immersione a vaso singolo da laboratorio
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Target a cristallo singolo Si, drogato P (100) 3" x 4,0 mm, non lucidato-TG-SiPa76D40CN
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Target a cristallo singolo Si, tipo N, non drogato, (100) ori., 3'' dia x 6,0 mm, macinato fine, R1000 ohm.cm-TG-SiU76D60CN
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Obiettivo ZnS, 99,99%, 4" dia x 1/8" con piastra di supporto in rame
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Target a cristallo singolo Si, tipo N, non drogato 4"x0,25", non lucidato R:1000 ohm.cm- TG-GaN15D30CN
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PbS Target con supporto in rame e piastra di rivestimento, purezza:99,99%
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Monocristallo di MgO per evaporazione, 5x5x5 mm al taglio
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Monocristallo MgF2 per evaporazione, unità 2.8-6mmm: Gram
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Bersaglio LiNiCoMnO2 per catodo di batteria a film sottile
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Bersaglio LiMn2O4 per catodo di batteria a film sottile
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Obiettivo LiFePO4 per catodo di batteria a film sottile
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Monocristallo di GaAs per evaporazione, 5x5x5 mm al taglio
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Monocristallo CdWO4 per evaporazione, 5x5x5 mm al taglio
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Monocristallo CaF2 per evaporazione, 5x5x5 mm al taglio
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Obiettivo GaN, 99,99% 15 mm x 3,0 mm, TG-GaN15D30CN
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Target ceramico conduttivo (1" Dx 0,3 mm t ) Li1.5Al0.5Ge1.5P3O12
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BiFeO3 Target, 3" Dia x 0,125" Spessore legame alla piastra di supporto in rame (Cu) (0,111" di spessore)
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Monocristallo Al2O3 per evaporazione, purezza 99,99%, 5x5x5 mm al taglio
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Target Al2O3, purezza: 99,99%, 6,9 "x8,9" x 0,25 "di spessore ， Target-Al2O3-172-222-0635CN
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Obiettivo Ba0.5Sr0.5TiO3, 99,99%
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Obiettivo Zr, 99,99%, 8,9"x6,9"x0,25",TG-Zr-222-172-0635CN
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Obiettivo Cu(1%Ga), purezza: 99,99% 4" dia. x0,25"
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Target Cd, purezza: 99,999% 2"dia. x1/8" con piastra di supporto in rame
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Target in acciaio inossidabile ad alta purezza, 2" dia.x 0,3 mm
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Obiettivo Cu(9)In(11), Purezza: 99,99%, 4" dia.x 0,125"
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Macchina di rivestimento per evaporazione termica sottovuoto a temperatura controllata di precisione da laboratorio
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3 Riscaldatore rotante della macchina per verniciatura a polverizzazione al plasma con target (500 °C) inclusi 3 target
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rivestimento per colata di nastro compatto con mandrino a vuoto (8 "wx14" l), applicatore di pellicola e coperchio dell'essiccatore 100º opzionale
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verniciatore a immersione programmabile della gamma micron (1-500 um / sec) con forno di essiccazione fino a 100 ° c
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Dip-coat a 5 posizioni programmabile con velocità 1-200 mm / min e camera di riscaldamento 100 ° c max.
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verniciatore a immersione (1-200 mm / min) con camera di temperatura da 124 l e controller touch panel per supporti di grandi dimensioni fino a 16 "x 9"
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invasatore di mandrino a vuoto programmabile (500-6000 giri / min, 8 "wafer max) con coperchio riscaldante opzionale
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centrifuga compatta (max. 8000 rpm, 4 "wafer max.) con 3 set di mandrini a vuoto e accessori completi
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spin-desktop economico (max. 8000 giri / min) con accessori completi
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Applicatore Film Umido Regolabile Con Micrometro A Display Digitale
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verniciatore da immersione multi-nave da tavolo
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sistema di rivestimento transfer roll to roll (larghezza max. 300 mm) con forno di essiccazione per elettrodi
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