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Prodotti
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- 3 Riscaldatore rotante della macchina per verniciatura a polverizzazione al plasma con target (500 °C) inclusi 3 target
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- Applicatore Film Umido Regolabile Con Micrometro A Display Digitale
- Applicatore Film micrometro con larghezza regolabile 0 - 150 mm
- Target a cristallo singolo Si, drogato P (100) 3" x 4,0 mm, non lucidato-TG-SiPa76D40CN
- Target a cristallo singolo Si, tipo N, non drogato, (100) ori., 3'' dia x 6,0 mm, macinato fine, R1000 ohm.cm-TG-SiU76D60CN
- Obiettivo ZnS, 99,99%, 4" dia x 1/8" con piastra di supporto in rame
- Target a cristallo singolo Si, tipo N, non drogato 4"x0,25", non lucidato R:1000 ohm.cm- TG-GaN15D30CN
- PbS Target con supporto in rame e piastra di rivestimento, purezza:99,99%
- Monocristallo di MgO per evaporazione, 5x5x5 mm al taglio
- Monocristallo MgF2 per evaporazione, unità 2.8-6mmm: Gram
- Bersaglio LiNiCoMnO2 per catodo di batteria a film sottile
- Bersaglio LiMn2O4 per catodo di batteria a film sottile
- Obiettivo LiFePO4 per catodo di batteria a film sottile
- Monocristallo di GaAs per evaporazione, 5x5x5 mm al taglio
- Monocristallo CdWO4 per evaporazione, 5x5x5 mm al taglio
- Monocristallo CaF2 per evaporazione, 5x5x5 mm al taglio
- Obiettivo GaN, 99,99% 15 mm x 3,0 mm, TG-GaN15D30CN
- Target ceramico conduttivo (1" Dx 0,3 mm t ) Li1.5Al0.5Ge1.5P3O12
- BiFeO3 Target, 3" Dia x 0,125" Spessore legame alla piastra di supporto in rame (Cu) (0,111" di spessore)
- Monocristallo Al2O3 per evaporazione, purezza 99,99%, 5x5x5 mm al taglio
- Target Al2O3, purezza: 99,99%, 6,9 "x8,9" x 0,25 "di spessore , Target-Al2O3-172-222-0635CN
- Obiettivo Ba0.5Sr0.5TiO3, 99,99%
- Obiettivo Zr, 99,99%, 8,9"x6,9"x0,25",TG-Zr-222-172-0635CN
- Obiettivo Cu(1%Ga), purezza: 99,99% 4" dia. x0,25"
- Target Cd, purezza: 99,999% 2"dia. x1/8" con piastra di supporto in rame
- Target in acciaio inossidabile ad alta purezza, 2" dia.x 0,3 mm
- Laboratorio automatico grande pellicola Coater con vuoto Chuck e racla regolabile
- Lab DC/RF Dual-Head Vacuum 2 Inch Magnetron Plasma Coater Machine
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- Macchina per verniciatura a sputtering con magnetron al plasma RF a 5 teste per la ricerca su film sottili MGI
- Il laboratorio 3 dirige la macchina del rivestimento di polverizzazione del magnetron del plasma da 1 pollice rf con la polverizzazione del magnetron di CC
- Applicatore di film regolabile in larghezza con micrometro regolabile
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