alimentatore RF

il sistema pecvd è composto da fornace a tubo, camera a vuoto al quarzo, sistema a vuoto, fornitura di gas sistema e sistema di alimentazione RF principalmente utilizzato in: film metallico, film ceramico, film composito, grafene e altre forme di crescita. È facile aumentare la funzione di incisione e incisione di pulizia al plasma. Il sistema pecvd ha vantaggi di alta tasso di deposizione, buona uniformità, coerenza e stabilità.

gamma di potenza	0-500w
massima potenza riflessa	200w
frequenza di lavoro	rf : 13,56 ± 0,005%
stabilità pw	+/- 0,1%
componente armonica	≤ -50dbc
larghezza rf	0-600mm regolabile
modalità di corrispondenza	auto
modalità di raffreddamento	aria fredda
rumore	& Lt; 50db
interfaccia rf	50 Ω tipo n
potenza di ingresso	208-240v 50 / 60hz

1. forniamo macchine con supporto per tecnologia batteria.

2. forniamo set completo di batteria al litio per ricerche di laboratorio, ricerca su scala pilota e produzione lin e.

1 pacchetto standard esportato: protezione anticollisione interna, confezione esterna in scatola di legno per esportazione.

2 spedizione per espresso, via aerea, via mare in base alle esigenze dei clienti per trovare il modo più adatto.

3 responsabile del danno durante il processo di spedizione, cambierà la parte danneggiata per te gratuitamente.