Tensione di ingresso

• 220 V CA 50/60 Hz
• L'alimentazione a 110 V è disponibile utilizzando a Trasformatore da 1000 W (fusibile da 15 A ). Il trasformatore è venduto separatamente

Potenza di uscita

• 1600 V CC
• 250 W
• 150mA max.
• Protezione da sovracorrente incorporata (>150 mA)

Testa che sputa

• È inclusa una testa di sputtering magnetron flessibile da 2" con camicia di raffreddamento ad acqua
• Un otturatore azionato manualmente per la protezione del bersaglio
• Il supporto della testa di sputtering è disponibile per tenere la testa di sputtering mentre non è in funzione
• La distanza tra la testa di sputtering e il tavolino del campione è regolabile da 60 a 100 mm
• Uno Refrigeratore d'acqua a ricircolo d'acqua fredda portata 16 l/min è incluso per il raffreddamento della testa di sputtering

Fase di vibrazione

• La fase di vibrazione è incorporata nella parte inferiore della camera a vuoto
• La velocità di vibrazione è regolabile da 400 a 2000 RPM (6 - 33 Hz)
• Un contenitore di polvere da 2 pollici viene posizionato sul piano di vibrazione. Ruoterà durante la vibrazione
• Quantità di polvere consigliata: < 500mg max.
• Dimensione delle particelle suggerita: 1 ~ 1000 micron

Camera sottovuoto

• Tubo in vetro di quarzo, diametro esterno 165 mm. X 150 mm ID x 250 mm Altezza

Pannello di controllo

• Pannello di controllo touch-screen a colori da 6" con integrazione PLC per un facile utilizzo
• Un pannello per monitorare e controllare tutti i parametri: vuoto, corrente

Ultima pressione del vuoto

• Porta vuoto KF25 integrata
• Il sistema richiede un serbatoio di gas Ar con regolatore di pressione (non incluso)
• < 1.0E-2 Torr di Pompa per vuoto a palette (non inclusa) per target Au, Ag, Pt, Cu, Mo (non sensibili all'aria)
• < 1.0E-5 Torr di Pompa turbomolecolare (non inclusa) per target Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn (sensibili all'aria)
• Il vuoto più basso può raggiungere < 4.0E-6 Torr pompando durante la notte e cuocendo

Atmosfera gassosa

• Una valvola a spillo installata per consentire l'ingresso del gas Ar per ottenere un migliore rivestimento al plasma
• Il sistema richiede un serbatoio di gas Ar con il regolatore di pressione (non incluso)

Obbiettivo

• One 2" Copper target is included for testing, target size: 2" Dia. x 2.5mm
• Può anche ricoprire Ag, Al, Cr, Ni, Pt, Ti, Sn, Li, Mg , ecc. quasi ogni tipo di materiale metallico
• Avvertimento: Alluminio, Cromo o Nichel può essere rivestito da questa macchina, ma si prega di visualizzare il metodo di rivestimento consigliato nel collegamento di destinazione sottostante
• Si prega di utilizzare RF Plasma Magnetron Sputtering Coater per rivestire materiali non conduttivi e carbonio

La dimensione complessiva

Peso netto

• 20kg

Peso di spedizione e amp; Dimensione

• 160 libbre
• 45" x 45" x 40"

Conformità

• Omologazione CE
• La certificazione NRTL (UL 6100) è disponibile su richiesta a un costo aggiuntivo, si prega di contattare il nostro rappresentante di vendita per un preventivo

Garanzia

• Un anno limitato con supporto a vita

Note applicative

• Avvertenza: la testina sputtering si collega all'ALTA tensione. L'operatore deve indossare i guanti durante il funzionamento
• Assicurarsi che il bersaglio, la testa di sputtering, il substrato e la fase di riscaldamento siano puliti prima del rivestimento, è necessario utilizzare la carta vetrata e l'alcool per pulire e rinfrescare il bersaglio in Al o Nickel ogni volta utilizzando
• Nota: la polvere deve asciugarsi e disperdersi bene prima del rivestimento
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