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Prodotti
- Monocristallo CaF2 per evaporazione, 5x5x5 mm al taglio
- Obiettivo GaN, 99,99% 15 mm x 3,0 mm, TG-GaN15D30CN
- Target ceramico conduttivo (1" Dx 0,3 mm t ) Li1.5Al0.5Ge1.5P3O12
- BiFeO3 Target, 3" Dia x 0,125" Spessore legame alla piastra di supporto in rame (Cu) (0,111" di spessore)
- Monocristallo Al2O3 per evaporazione, purezza 99,99%, 5x5x5 mm al taglio
- Target Al2O3, purezza: 99,99%, 6,9 "x8,9" x 0,25 "di spessore , Target-Al2O3-172-222-0635CN
- Obiettivo Ba0.5Sr0.5TiO3, 99,99%
- Obiettivo Zr, 99,99%, 8,9"x6,9"x0,25",TG-Zr-222-172-0635CN
- Obiettivo Cu(1%Ga), purezza: 99,99% 4" dia. x0,25"
- Target Cd, purezza: 99,999% 2"dia. x1/8" con piastra di supporto in rame
- Target in acciaio inossidabile ad alta purezza, 2" dia.x 0,3 mm
- Pressa isostatica a freddo compatta da laboratorio da 300 mpa 20t pressa oleodinamica cip manuale fino a max
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- pompa molecolare
- Pompa molecolare Pfeiffer
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- Pompa per vuoto rotativa a palette monoblocco
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- Schiuma di alluminio a celle aperte con sfera da 10 mm di spessore
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- macchina per la formatura di coppette da laboratorio per film laminati in alluminio
- schiuma di nichel schiuma di lamiera per capacità elettrica della batteria
- macchina da taglio a rullo laminato ad alta velocità in alluminio
- Rotolo di lamina di acciaio inossidabile spessore 0,03 mm
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