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Prodotti
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Refrigeratore d'acqua a ricircolo di aria fredda forzata con serbatoio da 9 litri di flusso 10L / min
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Macchina per PCR con termociclatore da laboratorio per la copia del DNA
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Saldatrice a punti automatica a transistor WDA-6000
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Saldatrice a punti DC Inverter 5000A
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Saldatrice a punti ad accumulo di energia 8000A
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Forno di tempra tubolare verticale ad alta temperatura da laboratorio 1200C per trattamento termico
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1500 Forno tubolare di tempra per lo studio della trasformazione delle fasi dei materiali da laboratorio
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Macchina per la polimerizzazione UV a luce LED UV portatile portatile da 2KW
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Macchina di rivestimento intermittente dell'elettrodo della batteria per la linea di produzione
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Forno di sollevamento a mini camera ad alta temperatura 1700°C
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Pressa idraulica manuale da laboratorio 24T per la pressatura di pellet in polvere
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Linea di assemblaggio Semi-Auo per batterie a celle cilindriche per 14500 18650 21700 26650 32650 celle cilindriche
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21700 18650 32650 32700 26650 linea di laboratorio cilindrica piccola linea di prova per la ricerca sulle batterie
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Linea automatica di attrezzature per la produzione di celle a sacchetto per la produzione di batterie agli ioni di litio
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Macchina automatica per il riempimento di elettroliti
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Foglio di schiuma di rame in schiuma di rame microporosa da 0,05 mm
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foglio di litio (spessore 0,75 mm x 19 mm larghezza x 3000 mm l) per batteria agli ioni di litio ricerca e sviluppo
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Miscelatore di miscelazione di polveri nanometriche tridimensionali da laboratorio
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Glove Box sottovuoto a doppia postazione di lavoro a lato singolo (1800 × 750 mm) con sistema di purificazione H2O e O2
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Target a cristallo singolo Si, drogato P (100) 3" x 4,0 mm, non lucidato-TG-SiPa76D40CN
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Target a cristallo singolo Si, tipo N, non drogato, (100) ori., 3'' dia x 6,0 mm, macinato fine, R1000 ohm.cm-TG-SiU76D60CN
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Obiettivo ZnS, 99,99%, 4" dia x 1/8" con piastra di supporto in rame
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Target a cristallo singolo Si, tipo N, non drogato 4"x0,25", non lucidato R:1000 ohm.cm- TG-GaN15D30CN
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PbS Target con supporto in rame e piastra di rivestimento, purezza:99,99%
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Monocristallo di MgO per evaporazione, 5x5x5 mm al taglio
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Monocristallo MgF2 per evaporazione, unità 2.8-6mmm: Gram
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Bersaglio LiNiCoMnO2 per catodo di batteria a film sottile
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Bersaglio LiMn2O4 per catodo di batteria a film sottile
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Obiettivo LiFePO4 per catodo di batteria a film sottile
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Monocristallo di GaAs per evaporazione, 5x5x5 mm al taglio
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Monocristallo CdWO4 per evaporazione, 5x5x5 mm al taglio
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Monocristallo CaF2 per evaporazione, 5x5x5 mm al taglio
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Obiettivo GaN, 99,99% 15 mm x 3,0 mm, TG-GaN15D30CN