Tensione di ingresso

• 220 V CA 50/60 Hz
• L'alimentazione a 110 V è disponibile utilizzando a Trasformatore da 1000 W (fusibile da 15 A ). Il trasformatore è venduto separatamente.

Potenza di uscita

• 1600 V CC
• 250 W
• 150mA max.
• Protezione da sovracorrente incorporata (>150 mA)

Camera dei campioni

• Tubo in vetro di quarzo, diametro esterno 165 mm. X 150 mm ID x 250 mm Altezza

Sputtering Head &
Palcoscenico

• È inclusa una testa di sputtering magnetron flessibile da 2" con camicia di raffreddamento ad acqua (Fig.1)
• Un portacampioni in acciaio inossidabile con diametro di 50 mm è ruotabile da 0 a 5 giri/min
• Un otturatore azionato manualmente per la protezione del bersaglio. (Fig.2)
• Il supporto della testa di sputtering è disponibile per tenere la testa di sputtering mentre non è in funzione.
• La distanza tra la testa di sputtering e il tavolino del campione è regolabile da 60 a 100 mm.
• Area di rivestimento massima: 4" diametro max.
• Uno Refrigeratore d'acqua a ricircolo di aria fredda 10 l/min flusso è incluso per il raffreddamento della testa di sputtering. (Fig.6)
• 

Pannello di controllo

• Pannello di controllo touch-screen a colori da 6" con integrazione PLC per un facile utilizzo
• Un pannello per monitorare e controllare tutti i parametri: vuoto, corrente.

Ultima pressione del vuoto

• Porta vuoto KF25 integrata
• Il sistema richiede un serbatoio di gas Ar con regolatore di pressione. (non incluso)
• < 1.0E-2 Torr di Pompa per vuoto a palette (non inclusa) per target Au, Ag, Pt, Cu, Mo (non sensibili all'aria)
• < 1.0E-5 Torr di Pompa turbomolecolare (non inclusa) per target Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn (sensibili all'aria)
• Il vuoto più basso può raggiungere < 4.0E-6 Torr pompando durante la notte e cuocendo

Atmosfera gassosa

• Una valvola a spillo installata per consentire l'ingresso del gas Ar per ottenere un migliore rivestimento al plasma
• Il sistema richiede un serbatoio di gas Ar con il regolatore di pressione (non incluso)

Obbiettivo

· Un bersaglio in rame da 2 "è incluso per il test, dimensione del bersaglio: 2" Dia.x 2,5 mm.

• Può anche ricoprire Ag, Al, Cr, Ni, Pt, Ti, Sn, Li, Mg , ecc. quasi ogni tipo di materiale metallico.
• Avvertimento : Target in alluminio, cromo o nichel può essere rivestito da questa macchina, ma si prega di consultare il metodo di rivestimento consigliato prima dell'uso.
• Si prega di utilizzare RF Plasma Magnetron Sputtering per rivestire l'allumina

Monitor dello spessore del film opzionale

• Il monitor dello spessore del film è opzionale a un costo aggiuntivo
• Il tavolino per campioni riscaldabile fino a 500°C è disponibile su richiesta a un costo aggiuntivo
• Il misuratore di portata per il controllo accurato dell'ingresso del gas è disponibile su richiesta a un costo aggiuntivo.

La dimensione complessiva

• L 440 mm × P 330 mm × H 290 mm

Peso netto

• 20kg

Peso di spedizione e amp; Dimensione

• 160 libbre
• 45" x 45" x 40"

Conformità

• Omologazione CE
• La certificazione NRTL è disponibile su richiesta a un costo aggiuntivo, si prega di contattare il nostro rappresentante di vendita per un preventivo.

Garanzia

• Un anno limitato con supporto a vita

Note applicative

• Avvertenza: la testina sputtering si collega all'ALTA tensione. L'operatore deve indossare i guanti durante il funzionamento
• Assicurarsi che il bersaglio, la testa di sputtering, il substrato e la fase di riscaldamento siano puliti prima del rivestimento, è necessario utilizzare la carta vetrata e l'alcool per pulire e rinfrescare il bersaglio in alluminio o nichel ogni volta che si utilizza.