Vuoto p ump S et

( O il richiesto) r otario v acum p ump

Rotante p urtare S pisciato

50 Hz: 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s)

Vuoto l imitare

2 papà

Corrente massima di sputtering

0-20 mA

Lavorando p pressione

30Pa - 7 papà

Passare l'aspirapolvere ti me

<5 Minimo( 2 Papà)

Vuoto m facilità

Campo di misura dall'atmosfera a 2*10 ^-2 mbar

Gas c controllo

Gas f basso c controllore

Camera S ize

Φ 15 0* 12 0 mm (altezza) vetro al quarzo antigraffio

Magnetron t arget S fonte

Dimensione obiettivo φ 50* 0.1 mm( UN u)/ t fonte di destinazione: Au,Ag,Pt

Operazione m metodo

Manuale di istruzioni l

Peso/ S ize

45 kg/ 36 0mm lunghezza x 30 0 mm di larghezza X 38 0 mm di altezza

Potenza S up

CA 110 V 60 Hz o CA 220 V 50 Hz

Potenza c consumo

< 15 00 W

Raffreddamento m metodo

Aria c raffreddamento

Garanzia

Garanzia limitata di un anno con supporto del prodotto a vita t