Lab DC Vacuum Ion Sputtering Coating Coater con dimensioni della camera di 150 * 120 mm

Lab DC Vacuum Ion Sputtering Coating Coater con dimensioni della camera di 150 * 120 mm introduzione Rivestimento a polverizzazione ionica (Modello SD900) è ideale e progettato per la preparazione di campioni SEM in laboratorio. È ampiamente utilizzato per rivestire campioni SEM non conduttivi con Au per una migliore imaging. Ottimo anche per il trattamento delle superfici. La pressione del vuoto di lavoro può essere raggiunta rapidamente entro 2 minuti quando si utilizza una pompa del vuoto adeguata. Genera molto meno calore. È facile da usare e facile da usare. La pompa del vuoto è inclusa. Parametro Vuoto p ump S et ( O il richiesto) r otario v acum p ump Rotante p urtare S pisciato 50 Hz: 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Vuoto l imitare 2 papà Corrente massima di sputtering 0-20 mA Lavorando p pressione 30Pa - 7 papà Passare l'aspirapolvere ti me <5 Minimo( 2 Papà) Vuoto m facilità Campo di misura dall'atmosfera a 2*10 -2 mbar Gas c controllo Gas f basso c controllore Camera S ize Φ 15 0* 12 0 mm (altezza) vetro al quarzo antigraffio Magnetron t arget S fonte Dimensione obiettivo φ 50* 0.1 mm( UN u)/ t fonte di destinazione: Au,Ag,Pt Operazione m metodo Manuale di istruzioni l Peso/ S ize 45 kg/ 36 0mm lunghezza x 30 0 mm di larghezza X 38 0 mm di altezza Potenza S up CA 110 V 60 Hz o CA 220 V 50 Hz Potenza c consumo < 15 00 W Raffreddamento m metodo Aria c raffreddamento Garanzia Garanzia limitata di un anno con supporto del prodotto a vita t

Materials Science Vacuum Magnetron Ion Sputter Coating Coater

Materials Science Vacuum Magnetron Ion Sputter Coating Coater introduzione Scienza dei materiali Magnetron Ion Sputtering Coater (Modello SD900M) è ideale e progettato per la preparazione di campioni SEM in laboratorio. È ampiamente utilizzato per rivestire campioni SEM non conduttivi o sensibili al calore con Au per una migliore imaging. È anche eccellente per il trattamento superficiale ed evita danni al campione di substrato. Risultato del rivestimento Immagine campione al SEM (per modello SD-900M) EPTFE (Extended Poly Tetra Fluoro Ethylene) Basso vuoto, può essere raggiunto rapidamente quando si utilizza una pompa del vuoto adeguata entro 5 minuti. Genera molto meno calore ed evita danni al plasma al campione di substrato. È facile da usare e facile da usare. La pompa del vuoto è inclusa. Il refrigeratore è opzionale. Parametro Vuoto p ump S et ( O il richiesto) r otario v acum p ump Rotante p urtare S pisciato 50 Hz: 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Vuoto l imitare 2 papà Max corrente di sputtering 100 mA Lavorando p pressione 20Pa - 8 papà Passare l'aspirapolvere t io me <5 Minimo( 2 Papà) Vuoto m facilità Campo di misura dall'atmosfera a 2*10 -2 mbar Camera S ize Φ 15 0* 12 0 mm (altezza) vetro al quarzo antigraffio Magnetron t arget S fonte Obbiettivo taglia φ50*0.1mm(Au) / t fonte di destinazione: Au,Ag,Pt Operazione m metodo Manuale di istruzioni l Peso/ S ize 45 kg/ 36 0mm lunghezza x 30 0 mm di larghezza X 38 0 mm di altezza Potenza S up CA 110 V 60 Hz o CA 220 V 50 Hz Potenza c consumo < 15 00 W Metodo di raffreddamento Raffreddamento ad acqua (opzionale) Garanzia Garanzia limitata di un anno con supporto del prodotto a vita