Laboratorio ad alta temperatura fornace del tubo rotante PECVD (60 millimetri OD) con zona di riscaldamento singolo a 1200C Max.

PECVD rotante Forno tubolare (60 millimetri OD) con singolo riscaldamento zona a 1200 ° C Max. TMAX-DSP-1200PECVD-XZ s è di 1200 ° c PE-CVD di tre zone tubo fornace sistema è costituito da sorgente di 500W RF al plasma, forno tubolare con un misuratore di portata massica canale integrato precisione con gas serbatoio, di miscelazione e una fornace di alta qualità senza olio pompa di vuoto. un PE-CVD è un nuovo strumento per crescere nanowire o grafene o rivestimento di SiC.

Laboratorio C 1200 Max. Forno ad alta temperatura di tubo PECVD (diametro del tubo opzionale) con Auto - scorrevole a due Zone

Max 1200 ° c. Due Zone PECVD forno tubolare (diametro del tubo opzionale) con Auto-scorrevole TMAX-DSP-1200PECVD è che un bi-zona scorrevole PE-CVD tubo fornace sistema è composto da sorgente al plasma RF, con dimensioni del tubo e un binario scorrevole integrato, misuratore di flusso di precisione con gas miscelazione serbatoio e una pompa a vuoto di alta qualità dell'olio-di meno. un forno PE-CVD è un nuovo strumento per crescere nanowire o grafene con i seguenti vantaggi: 1. lavorazione a temperature inferiori rispetto al convenzionale CVD. 2. alto riscaldamento & raffreddamento tasso mediante forno scorrevole. 3. Max 1200 ° c. temperatura di lavoro. 4. offre una vasta gamma di deposizione del materiale, quali carbonio & ZnO nanowire (o tubo) e grafema monostrato.

forno a tubo diviso a zona singola 1200 ° c

forno a tubo diviso a zona singola 1200 ° c