Coater per rivestimento sputtering ionico magnetron ad alto vuoto CC o RF

Coater per rivestimento sputtering ionico magnetron ad alto vuoto CC o RF introduzione Alto Magnetron Ion Sputtering Coater sottovuoto è ideale e progettato per la scienza dei materiali e la preparazione dei campioni. È ampiamente utilizzato per la maggior parte delle università e degli istituti di ricerca scientifica di scienza e ingegneria dei materiali per rivestire, per metalli, ceramiche, semiconduttori, isolanti o altri tipi di preparazione del materiale della membrana. High Vacuum Magnetron Ion Sputtering Coater fornisce l'ambiente di sputtering più stabile e raggiunge le condizioni sperimentali di base dello sputtering di magnetron in un periodo di tempo molto breve. Fornisce DC / RF due tipi di opzioni di alimentazione sputtering che consentono lo sputtering di sostanze conduttive o non conduttive sul campione e migliorano le prestazioni di deposizione fisica da vapore (PVD). È anche eccellente per il trattamento superficiale e il rivestimento. È facile da usare e anche facile da usare. Pompa del vuoto e refrigeratore sono inclusi. Parametro Vuoto p ump S et ( O il richiesto) r otario v acum p ump+( o il libero) t urbo m oleculan p insieme Rotante p urtare S pisciato 50 Hz: 16 m³ / h (4,4 L/s)/ 60 Hz : 19,2 m³ /ora (5,2 l/s) Molecolare p urtare S pisciato 300 litri/ S Vuoto l imitare 5*10 -5 papà Lavorando p pressione 0,5-5 Pa Passare l'aspirapolvere t io me >10 min(10 -3 Papà) Vuoto m facilità Campo di misura dall'atmosfera a 1*10 -6 papà Gas c controllo Gas f basso c controllore Camera S ize φ260*200mm (altezza) m etale Magnetron t arget S fonte Dimensione target φ 50*3mm(Cu)/ t fonte di destinazione: w eak m magnetico S sostanza / m materiali Operazione m metodo Manuale di istruzioni l Peso/ S ize 100 kg/610 mm di lunghezza x 420 mm di larghezza x 490 mm di altezza Potenza S up CA 110 V 60 Hz o CA 220 V 50 Hz Potenza c consumo <3000W Raffreddamento m metodo Aria c raffreddamento( p ump)+ w ater c raffreddamento( S puttering t arget) Garanzia Garanzia limitata di un anno con supporto del prodotto a vita

Materials Science Vacuum Magnetron Ion Sputter Coating Coater

Materials Science Vacuum Magnetron Ion Sputter Coating Coater introduzione Scienza dei materiali Magnetron Ion Sputtering Coater (Modello SD900M) è ideale e progettato per la preparazione di campioni SEM in laboratorio. È ampiamente utilizzato per rivestire campioni SEM non conduttivi o sensibili al calore con Au per una migliore imaging. È anche eccellente per il trattamento superficiale ed evita danni al campione di substrato. Risultato del rivestimento Immagine campione al SEM (per modello SD-900M) EPTFE (Extended Poly Tetra Fluoro Ethylene) Basso vuoto, può essere raggiunto rapidamente quando si utilizza una pompa del vuoto adeguata entro 5 minuti. Genera molto meno calore ed evita danni al plasma al campione di substrato. È facile da usare e facile da usare. La pompa del vuoto è inclusa. Il refrigeratore è opzionale. Parametro Vuoto p ump S et ( O il richiesto) r otario v acum p ump Rotante p urtare S pisciato 50 Hz: 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Vuoto l imitare 2 papà Max corrente di sputtering 100 mA Lavorando p pressione 20Pa - 8 papà Passare l'aspirapolvere t io me <5 Minimo( 2 Papà) Vuoto m facilità Campo di misura dall'atmosfera a 2*10 -2 mbar Camera S ize Φ 15 0* 12 0 mm (altezza) vetro al quarzo antigraffio Magnetron t arget S fonte Obbiettivo taglia φ50*0.1mm(Au) / t fonte di destinazione: Au,Ag,Pt Operazione m metodo Manuale di istruzioni l Peso/ S ize 45 kg/ 36 0mm lunghezza x 30 0 mm di larghezza X 38 0 mm di altezza Potenza S up CA 110 V 60 Hz o CA 220 V 50 Hz Potenza c consumo < 15 00 W Metodo di raffreddamento Raffreddamento ad acqua (opzionale) Garanzia Garanzia limitata di un anno con supporto del prodotto a vita