Laboratorio Desktop Precision Flat Slot Die Coater W/Riscaldamento sottovuoto Chunk

Il desktop TMAX-TMJ-180C la macchina di rivestimento continuo è una piccola macchina di rivestimento da rotolo a rullo per laboratorio ricerca, è assemblato da un dispositivo di rivestimento ad alta precisione, adatto a istituzioni, lavoro di ricerca sulle batterie su scala pilota di università e fabbrica.

Coater per rivestimento sputtering ionico magnetron ad alto vuoto CC o RF

Coater per rivestimento sputtering ionico magnetron ad alto vuoto CC o RF introduzione Alto Magnetron Ion Sputtering Coater sottovuoto è ideale e progettato per la scienza dei materiali e la preparazione dei campioni. È ampiamente utilizzato per la maggior parte delle università e degli istituti di ricerca scientifica di scienza e ingegneria dei materiali per rivestire, per metalli, ceramiche, semiconduttori, isolanti o altri tipi di preparazione del materiale della membrana. High Vacuum Magnetron Ion Sputtering Coater fornisce l'ambiente di sputtering più stabile e raggiunge le condizioni sperimentali di base dello sputtering di magnetron in un periodo di tempo molto breve. Fornisce DC / RF due tipi di opzioni di alimentazione sputtering che consentono lo sputtering di sostanze conduttive o non conduttive sul campione e migliorano le prestazioni di deposizione fisica da vapore (PVD). È anche eccellente per il trattamento superficiale e il rivestimento. È facile da usare e anche facile da usare. Pompa del vuoto e refrigeratore sono inclusi. Parametro Vuoto p ump S et ( O il richiesto) r otario v acum p ump+( o il libero) t urbo m oleculan p insieme Rotante p urtare S pisciato 50 Hz: 16 m³ / h (4,4 L/s)/ 60 Hz : 19,2 m³ /ora (5,2 l/s) Molecolare p urtare S pisciato 300 litri/ S Vuoto l imitare 5*10 -5 papà Lavorando p pressione 0,5-5 Pa Passare l'aspirapolvere t io me >10 min(10 -3 Papà) Vuoto m facilità Campo di misura dall'atmosfera a 1*10 -6 papà Gas c controllo Gas f basso c controllore Camera S ize φ260*200mm (altezza) m etale Magnetron t arget S fonte Dimensione target φ 50*3mm(Cu)/ t fonte di destinazione: w eak m magnetico S sostanza / m materiali Operazione m metodo Manuale di istruzioni l Peso/ S ize 100 kg/610 mm di lunghezza x 420 mm di larghezza x 490 mm di altezza Potenza S up CA 110 V 60 Hz o CA 220 V 50 Hz Potenza c consumo <3000W Raffreddamento m metodo Aria c raffreddamento( p ump)+ w ater c raffreddamento( S puttering t arget) Garanzia Garanzia limitata di un anno con supporto del prodotto a vita

Lab DC Magnetron Sputtering Coater Machine con tavola rotante e refrigeratore d'acqua

Magnetron CC ad alta potenza che fa sputtering Coater con Rotary Stage & Refrigeratore d'acqua

Lab DC Vacuum Ion Sputtering Coating Coater con dimensioni della camera di 150 * 120 mm

Lab DC Vacuum Ion Sputtering Coating Coater con dimensioni della camera di 150 * 120 mm introduzione Rivestimento a polverizzazione ionica (Modello SD900) è ideale e progettato per la preparazione di campioni SEM in laboratorio. È ampiamente utilizzato per rivestire campioni SEM non conduttivi con Au per una migliore imaging. Ottimo anche per il trattamento delle superfici. La pressione del vuoto di lavoro può essere raggiunta rapidamente entro 2 minuti quando si utilizza una pompa del vuoto adeguata. Genera molto meno calore. È facile da usare e facile da usare. La pompa del vuoto è inclusa. Parametro Vuoto p ump S et ( O il richiesto) r otario v acum p ump Rotante p urtare S pisciato 50 Hz: 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Vuoto l imitare 2 papà Corrente massima di sputtering 0-20 mA Lavorando p pressione 30Pa - 7 papà Passare l'aspirapolvere ti me <5 Minimo( 2 Papà) Vuoto m facilità Campo di misura dall'atmosfera a 2*10 -2 mbar Gas c controllo Gas f basso c controllore Camera S ize Φ 15 0* 12 0 mm (altezza) vetro al quarzo antigraffio Magnetron t arget S fonte Dimensione obiettivo φ 50* 0.1 mm( UN u)/ t fonte di destinazione: Au,Ag,Pt Operazione m metodo Manuale di istruzioni l Peso/ S ize 45 kg/ 36 0mm lunghezza x 30 0 mm di larghezza X 38 0 mm di altezza Potenza S up CA 110 V 60 Hz o CA 220 V 50 Hz Potenza c consumo < 15 00 W Raffreddamento m metodo Aria c raffreddamento Garanzia Garanzia limitata di un anno con supporto del prodotto a vita t

Materials Science Vacuum Magnetron Ion Sputter Coating Coater

Materials Science Vacuum Magnetron Ion Sputter Coating Coater introduzione Scienza dei materiali Magnetron Ion Sputtering Coater (Modello SD900M) è ideale e progettato per la preparazione di campioni SEM in laboratorio. È ampiamente utilizzato per rivestire campioni SEM non conduttivi o sensibili al calore con Au per una migliore imaging. È anche eccellente per il trattamento superficiale ed evita danni al campione di substrato. Risultato del rivestimento Immagine campione al SEM (per modello SD-900M) EPTFE (Extended Poly Tetra Fluoro Ethylene) Basso vuoto, può essere raggiunto rapidamente quando si utilizza una pompa del vuoto adeguata entro 5 minuti. Genera molto meno calore ed evita danni al plasma al campione di substrato. È facile da usare e facile da usare. La pompa del vuoto è inclusa. Il refrigeratore è opzionale. Parametro Vuoto p ump S et ( O il richiesto) r otario v acum p ump Rotante p urtare S pisciato 50 Hz: 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Vuoto l imitare 2 papà Max corrente di sputtering 100 mA Lavorando p pressione 20Pa - 8 papà Passare l'aspirapolvere t io me <5 Minimo( 2 Papà) Vuoto m facilità Campo di misura dall'atmosfera a 2*10 -2 mbar Camera S ize Φ 15 0* 12 0 mm (altezza) vetro al quarzo antigraffio Magnetron t arget S fonte Obbiettivo taglia φ50*0.1mm(Au) / t fonte di destinazione: Au,Ag,Pt Operazione m metodo Manuale di istruzioni l Peso/ S ize 45 kg/ 36 0mm lunghezza x 30 0 mm di larghezza X 38 0 mm di altezza Potenza S up CA 110 V 60 Hz o CA 220 V 50 Hz Potenza c consumo < 15 00 W Metodo di raffreddamento Raffreddamento ad acqua (opzionale) Garanzia Garanzia limitata di un anno con supporto del prodotto a vita

Magnetron Ion Thermal Evaporation Carbon Sputter Coater per la preparazione di campioni SEM

Magnetron Ion Thermal Evaporation Carbon Sputter Coater per la preparazione di campioni SEM introduzione Unità di sputtering di ioni magnetron & Termico Carbonio per evaporazione Rivestitore è ideale e progettato per la preparazione di campioni SEM in laboratorio. Il modello SD900C (Magnetron Ion Sputtering Unit) è ampiamente utilizzato per rivestire campioni SEM non conduttivi o sensibili al calore con Au per una migliore imaging. È anche eccellente per il trattamento superficiale ed evita danni al campione di substrato. Il rivestimento in carbonio modello SD900C (Thermal Evaporation Carbon Unit) applica una sottile pellicola di carbonio conduttivo su una superficie del campione. L'applicazione di questo rivestimento a un campione non conduttivo è una tecnica di preparazione efficace per diminuire gli artefatti degli elettroni di carica per l'analisi in un SEM. La pressione del vuoto di lavoro può essere raggiunta rapidamente quando si utilizza una pompa del vuoto adeguata entro 5 minuti. È facile da usare e facile da usare. La pompa del vuoto è inclusa. Il refrigeratore è opzionale. (per l'unità di sputtering ionico Magnetron) Parametro Vuoto p ump S et ( O il richiesto) r otario v acum p ump Rotante p urtare S pisciato 50 Hz: 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Vuoto l imitare 2 papà Max corrente di sputtering 100 mA Evaporazione massima attuale 100 A Lavorando p pressione 20Pa - 8 papà Passare l'aspirapolvere ti me <5 Minimo( 2 Papà) Vuoto m facilità Campo di misura dall'atmosfera a 2*10 -2 mbar Gas c controllo Gas f basso c controllore Camera S ize Φ 15 0* 12 0 mm (altezza) vetro al quarzo antigraffio Magnetron t arget S fonte Dimensione obiettivo φ 50* 0.1 mm( UN u)/ t fonte di destinazione: Au,Ag,Pt evaporazione t arget S fonte Materiale target: corda in carbonio / fonte target: corda in carbonio Operazione m metodo Manuale di istruzioni l (2 unità) Peso/ S ize 55 kg/ 36 0mm lunghezza x 30 0 mm di larghezza X 38 0 mm di altezza Potenza S up CA 110 V 60 Hz o CA 220 V 50 Hz Potenza c consumo < 20 00 W Raffreddamento m metodo Aria c raffreddamento (Evaporazione) + raffreddamento ad acqua (sputtering) Garanzia Garanzia limitata di un anno con prodotto a vita supporto t

Lab DC Magnetron Sputtering Coater Machine con obiettivo per rivestimento in metallo nobile

Coater compatto DC Magnetron Sputtering con target dorato per rivestimento in metallo nobile

Laboratorio automatico grande pellicola Coater con vuoto Chuck e racla regolabile

grande automatico Film spalmatrice con vuoto Chuck e racla regolabile TMAX-TM è una certificazione CE grande automatico Film Coater con mandrino vuoto progettato per produrre film con spessore costante utilizzando applicatori di micrometro regolabile o fisso applicatori di spessore. Dispone di un sistema di guida unico per produrre il rivestimento liscio su tutti i tipi di materiali. Il piatto vuoto mandrino è costruito in per tenere il foglio di substrato sul posto, che è particolarmente utile quando rivestimento sul substrato sottile e rendendo applicatore nastro uniforme di un micrometro regolabile casting. è incluso per uso immediato. questa macchina può essere utilizzata per la ricerca sulla fusione di nastro in ceramica e rivestimento dell'elettrodo di li-ion batteria.

Lab DC/RF Dual-Head Vacuum 2 Inch Magnetron Plasma Coater Machine

Verniciatore a sputtering al plasma con magnetron da 2 pollici a doppia testa DC/RF ad alto vuoto

dip-coat controllato a immersione (1-200 mm / min) per supporti di grandi dimensioni fino a 10 "x12"

dip-coat controllato a immersione (1-200 mm / min) per supporti di grandi dimensioni fino a 10 "x12"

Dip-coat a 5 posizioni programmabile con velocità 1-200 mm / min e camera di riscaldamento 100 ° c max.

Dip Coater a 5 posizioni programmabile con velocità 1-200 mm / min e amp; camera di riscaldamento 100 ° c max.