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verniciatore a immersione programmabile con intervallo di nanometri con forno di essiccazione (1-500 nm / sec, 100 ° c max.)
verniciatore a immersione programmabile con intervallo di nanometri con forno di essiccazione (1-500 nm / sec, 100 ° c max.)
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rivestimento per colata di nastro compatto con mandrino a vuoto (8 "wx14" l), applicatore di pellicola e coperchio dell'essiccatore 100º opzionale
rivestimento compatto per colata su nastro con mandrino a vuoto (8 "wx14" l), applicatore e amp; coperchio opzionale dell'essiccatore a 100ºc tmax-tmh250 è un rivestimento di colata compatto pronto per la certificazione certificato ce con una copertura riscaldante progettata per produrre film con spessore costante. ha un sistema di guida unico per produrre un rivestimento liscio su tutti i tipi di materiali. il mandrino a vuoto piatto è incorporato per mantenere il foglio di supporto in posizione, il che è particolarmente utile quando si realizzano rivestimenti sottili. un applicatore micrometrico regolabile in larghezza 100 mm (racla). il coperchio riscaldante con termoregolatore digitale può asciugare i film dopo il rivestimento fino a 100 ° C con una precisione della temperatura di +/- 1 ° C. questa apparecchiatura può essere utilizzata per i ricercatori su getti di nastro ceramico e rivestimento di elettrodi per batterie agli ioni di litio.
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Il laboratorio 3 dirige la macchina del rivestimento di polverizzazione del magnetron del plasma da 1 pollice rf con la polverizzazione del magnetron di CC
Rivestitore a sputtering con magnetron al plasma RF da 1 pollice compatto a 3 teste, con opzione di sputtering a magnetron CC
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Macchina per verniciatura a sputtering con magnetron al plasma RF da 2 pollici per film sottili non conduttivi
Magnetron al plasma RF da 2 pollici Sputtering Coater per film sottili non conduttivi
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Lab DC Magnetron Sputtering Coater Machine con tavola rotante e refrigeratore d'acqua
Magnetron CC ad alta potenza che fa sputtering Coater con Rotary Stage & Refrigeratore d'acqua
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3 Riscaldatore rotante della macchina per verniciatura a polverizzazione al plasma con target (500 °C) inclusi 3 target
3 Coater per sputtering al plasma bersaglio rotante w. Riscaldatore del substrato (500°C) inclusi 3 bersagli
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Lab DC Magnetron Sputtering Coater Machine con obiettivo per rivestimento in metallo nobile
Coater compatto DC Magnetron Sputtering con target dorato per rivestimento in metallo nobile
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Macchina per rivestimento PVD in polvere da laboratorio con fase di sputtering e vibrazione del magnetron CC
Verniciatore PVD a polvere compatta con magnetron DC Sputtering e amp; Fase di vibrazione
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Macchina per verniciatura a sputtering con magnetron al plasma RF a 5 teste per la ricerca su film sottili MGI
Rivestitore per sputtering di magnetron al plasma RF a 5 teste personalizzato per la ricerca su film sottili MGI
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Macchina combinatoria per verniciatura a sputtering al plasma con tre sorgenti di sputtering magnetron da 2'' e alimentazione RF/DC
Plasma Sputtering Coater combinatorio con tre sorgenti di sputtering magnetron da 2'' e alimentatori RF/CC
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Lab DC/RF Dual-Head Vacuum 2 Inch Magnetron Plasma Coater Machine
Verniciatore a sputtering al plasma con magnetron da 2 pollici a doppia testa DC/RF ad alto vuoto
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Macchina con sistema di evaporazione termica a 4 fonti con regolatore di temperatura di precisione
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Macchina di rivestimento per evaporazione termica sottovuoto a temperatura controllata di precisione da laboratorio
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Due in uno Film Coater: Plasma Sputter e Carbon Evaporation Coating Machine
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Macchina per rivestimento ad evaporazione termica ad alto vuoto ad ultrasuoni con quattro fonti di riscaldamento (10-6 torr)