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  • Coater ad evaporazione termica Due in uno Film Coater: Plasma Sputter e Carbon Evaporation Coating Machine

  • Coater ad evaporazione termica Macchina per rivestimento ad evaporazione termica ad alto vuoto ad ultrasuoni con quattro fonti di riscaldamento (10-6 torr)

  • Fornitori di fornaci CSS Forno CSS da laboratorio a due zone per un trattamento termico rapido fino a 5" di wafer di diametro a max.800°C

  • Sputter Coater per la preparazione dei campioni SEM Magnetron Ion Thermal Evaporation Carbon Sputter Coater per la preparazione di campioni SEM

    Magnetron Ion Thermal Evaporation Carbon Sputter Coater per la preparazione di campioni SEM introduzione Unità di sputtering di ioni magnetron & Termico Carbonio per evaporazione Rivestitore è ideale e progettato per la preparazione di campioni SEM in laboratorio. Il modello SD900C (Magnetron Ion Sputtering Unit) è ampiamente utilizzato per rivestire campioni SEM non conduttivi o sensibili al calore con Au per una migliore imaging. È anche eccellente per il trattamento superficiale ed evita danni al campione di substrato. Il rivestimento in carbonio modello SD900C (Thermal Evaporation Carbon Unit) applica una sottile pellicola di carbonio conduttivo su una superficie del campione. L'applicazione di questo rivestimento a un campione non conduttivo è una tecnica di preparazione efficace per diminuire gli artefatti degli elettroni di carica per l'analisi in un SEM. La pressione del vuoto di lavoro può essere raggiunta rapidamente quando si utilizza una pompa del vuoto adeguata entro 5 minuti. È facile da usare e facile da usare. La pompa del vuoto è inclusa. Il refrigeratore è opzionale. (per l'unità di sputtering ionico Magnetron) Parametro Vuoto p ump S et ( O il richiesto) r otario v acum p ump Rotante p urtare S pisciato 50 Hz: 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Vuoto l imitare 2 papà Max corrente di sputtering 100 mA Evaporazione massima attuale 100 A Lavorando p pressione 20Pa - 8 papà Passare l'aspirapolvere ti me <5 Minimo( 2 Papà) Vuoto m facilità Campo di misura dall'atmosfera a 2*10 -2 mbar Gas c controllo Gas f basso c controllore Camera S ize Φ 15 0* 12 0 mm (altezza) vetro al quarzo antigraffio Magnetron t arget S fonte Dimensione obiettivo φ 50* 0.1 mm( UN u)/ t fonte di destinazione: Au,Ag,Pt evaporazione t arget S fonte Materiale target: corda in carbonio / fonte target: corda in carbonio Operazione m metodo Manuale di istruzioni l (2 unità) Peso/ S ize 55 kg/ 36 0mm lunghezza x 30 0 mm di larghezza X 38 0 mm di altezza Potenza S up CA 110 V 60 Hz o CA 220 V 50 Hz Potenza c consumo < 20 00 W Raffreddamento m metodo Aria c raffreddamento (Evaporazione) + raffreddamento ad acqua (sputtering) Garanzia Garanzia limitata di un anno con prodotto a vita supporto t

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