Il laboratorio 3 dirige la macchina del rivestimento di polverizzazione del magnetron del plasma da 1 pollice rf con la polverizzazione del magnetron di CC

Rivestitore a sputtering con magnetron al plasma RF da 1 pollice compatto a 3 teste, con opzione di sputtering a magnetron CC

Macchina per verniciatura a sputtering con magnetron al plasma RF da 2 pollici per film sottili non conduttivi

Magnetron al plasma RF da 2 pollici Sputtering Coater per film sottili non conduttivi

Lab DC Magnetron Sputtering Coater Machine con tavola rotante e refrigeratore d'acqua

Magnetron CC ad alta potenza che fa sputtering Coater con Rotary Stage & Refrigeratore d'acqua

3 Riscaldatore rotante della macchina per verniciatura a polverizzazione al plasma con target (500 °C) inclusi 3 target

3 Coater per sputtering al plasma bersaglio rotante w. Riscaldatore del substrato (500°C) inclusi 3 bersagli

Lab DC Magnetron Sputtering Coater Machine con obiettivo per rivestimento in metallo nobile

Coater compatto DC Magnetron Sputtering con target dorato per rivestimento in metallo nobile

Macchina per rivestimento PVD in polvere da laboratorio con fase di sputtering e vibrazione del magnetron CC

Verniciatore PVD a polvere compatta con magnetron DC Sputtering e amp; Fase di vibrazione

Macchina per verniciatura a sputtering con magnetron al plasma RF a 5 teste per la ricerca su film sottili MGI

Rivestitore per sputtering di magnetron al plasma RF a 5 teste personalizzato per la ricerca su film sottili MGI

Macchina combinatoria per verniciatura a sputtering al plasma con tre sorgenti di sputtering magnetron da 2'' e alimentazione RF/DC

Plasma Sputtering Coater combinatorio con tre sorgenti di sputtering magnetron da 2'' e alimentatori RF/CC

Lab DC/RF Dual-Head Vacuum 2 Inch Magnetron Plasma Coater Machine

Verniciatore a sputtering al plasma con magnetron da 2 pollici a doppia testa DC/RF ad alto vuoto

Lab DC Vacuum Ion Sputtering Coating Coater con dimensioni della camera di 150 * 120 mm

Lab DC Vacuum Ion Sputtering Coating Coater con dimensioni della camera di 150 * 120 mm introduzione Rivestimento a polverizzazione ionica (Modello SD900) è ideale e progettato per la preparazione di campioni SEM in laboratorio. È ampiamente utilizzato per rivestire campioni SEM non conduttivi con Au per una migliore imaging. Ottimo anche per il trattamento delle superfici. La pressione del vuoto di lavoro può essere raggiunta rapidamente entro 2 minuti quando si utilizza una pompa del vuoto adeguata. Genera molto meno calore. È facile da usare e facile da usare. La pompa del vuoto è inclusa. Parametro Vuoto p ump S et ( O il richiesto) r otario v acum p ump Rotante p urtare S pisciato 50 Hz: 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Vuoto l imitare 2 papà Corrente massima di sputtering 0-20 mA Lavorando p pressione 30Pa - 7 papà Passare l'aspirapolvere ti me <5 Minimo( 2 Papà) Vuoto m facilità Campo di misura dall'atmosfera a 2*10 -2 mbar Gas c controllo Gas f basso c controllore Camera S ize Φ 15 0* 12 0 mm (altezza) vetro al quarzo antigraffio Magnetron t arget S fonte Dimensione obiettivo φ 50* 0.1 mm( UN u)/ t fonte di destinazione: Au,Ag,Pt Operazione m metodo Manuale di istruzioni l Peso/ S ize 45 kg/ 36 0mm lunghezza x 30 0 mm di larghezza X 38 0 mm di altezza Potenza S up CA 110 V 60 Hz o CA 220 V 50 Hz Potenza c consumo < 15 00 W Raffreddamento m metodo Aria c raffreddamento Garanzia Garanzia limitata di un anno con supporto del prodotto a vita t

Coater per rivestimento sputtering ionico magnetron ad alto vuoto CC o RF

Coater per rivestimento sputtering ionico magnetron ad alto vuoto CC o RF introduzione Alto Magnetron Ion Sputtering Coater sottovuoto è ideale e progettato per la scienza dei materiali e la preparazione dei campioni. È ampiamente utilizzato per la maggior parte delle università e degli istituti di ricerca scientifica di scienza e ingegneria dei materiali per rivestire, per metalli, ceramiche, semiconduttori, isolanti o altri tipi di preparazione del materiale della membrana. High Vacuum Magnetron Ion Sputtering Coater fornisce l'ambiente di sputtering più stabile e raggiunge le condizioni sperimentali di base dello sputtering di magnetron in un periodo di tempo molto breve. Fornisce DC / RF due tipi di opzioni di alimentazione sputtering che consentono lo sputtering di sostanze conduttive o non conduttive sul campione e migliorano le prestazioni di deposizione fisica da vapore (PVD). È anche eccellente per il trattamento superficiale e il rivestimento. È facile da usare e anche facile da usare. Pompa del vuoto e refrigeratore sono inclusi. Parametro Vuoto p ump S et ( O il richiesto) r otario v acum p ump+( o il libero) t urbo m oleculan p insieme Rotante p urtare S pisciato 50 Hz: 16 m³ / h (4,4 L/s)/ 60 Hz : 19,2 m³ /ora (5,2 l/s) Molecolare p urtare S pisciato 300 litri/ S Vuoto l imitare 5*10 -5 papà Lavorando p pressione 0,5-5 Pa Passare l'aspirapolvere t io me >10 min(10 -3 Papà) Vuoto m facilità Campo di misura dall'atmosfera a 1*10 -6 papà Gas c controllo Gas f basso c controllore Camera S ize φ260*200mm (altezza) m etale Magnetron t arget S fonte Dimensione target φ 50*3mm(Cu)/ t fonte di destinazione: w eak m magnetico S sostanza / m materiali Operazione m metodo Manuale di istruzioni l Peso/ S ize 100 kg/610 mm di lunghezza x 420 mm di larghezza x 490 mm di altezza Potenza S up CA 110 V 60 Hz o CA 220 V 50 Hz Potenza c consumo <3000W Raffreddamento m metodo Aria c raffreddamento( p ump)+ w ater c raffreddamento( S puttering t arget) Garanzia Garanzia limitata di un anno con supporto del prodotto a vita

Sistema di rivestimento automatico portatile per sputtering ionico sottovuoto CC per la preparazione di campioni SEM non conduttivi

Sistema di rivestimento automatico portatile per sputtering ionico sottovuoto CC per la preparazione di campioni SEM non conduttivi introduzione Compatto Coater automatico a polverizzazione ionica (Modello SD800) ideale e progettato per la preparazione di campioni SEM in laboratorio. È ampiamente utilizzato per rivestire campioni SEM non conduttivi con Au per una migliore imaging. Ottimo anche per il trattamento delle superfici. La pressione del vuoto di lavoro può essere raggiunta rapidamente durante l'utilizzo pompa del vuoto adeguata. Genera molto meno calore. È facile da usare e facile da usare utilizzando Time Control. La pompa del vuoto è inclusa. Parametro Vuoto p ump S et ( O il richiesto) r otario v acum p ump Rotante p urtare S pisciato 50 Hz: 8 m³ / h ( 2 . 2 L/sec)/ 60Hz : 9 . 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Passare l'aspirapolvere t io me < 2 min Camera S ize Φ 115 * 1 00 mm (altezza) vetro al quarzo antigraffio Magnetron t arget S fonte Dimensione obiettivo φ 50* 0.1 mm( UN u)/ t fonte di destinazione: Au,Ag,Pt Operazione m metodo Manuale di istruzioni l Peso/ S ize 4 0kg/ 307 mm lunghezza x 26 0 mm di larghezza X 26 0 mm di altezza Potenza S up CA 110 V 60 Hz o CA 220 V 50 Hz Potenza c consumo < 15 00 W Raffreddamento m metodo Aria c raffreddamento Garanzia Garanzia limitata di un anno con prodotto a vita sostegno

Spalmatore di rivestimento a sputtering ad evaporazione termica a impulsi sottovuoto con pompa a vuoto

Spalmatore di rivestimento a sputtering ad evaporazione termica a impulsi sottovuoto con pompa a vuoto introduzione Automatico Rivestimento in carbonio ad evaporazione termica pulsante (Modello SD980) ideale e progettato per la preparazione di campioni SEM in laboratorio. Il rivestimento in carbonio modello SD980 è un rivestimento in carbonio completamente automatizzato che applica un sottile film di carbonio conduttivo su una superficie del campione. L'applicazione di questo rivestimento a un campione non conduttivo è una tecnica di preparazione efficace per diminuire gli artefatti degli elettroni di carica per l'analisi in un SEM. È inclusa anche una modalità pulsata per proteggere i campioni. La pressione del vuoto di lavoro può essere raggiunta rapidamente quando si utilizza una pompa del vuoto adeguata. È facile da usare e facile da usare controllando la potenza di riscaldamento del touch screen (corrente) e i tempi di impulso (ricetta). La pompa del vuoto è inclusa. Parametro Vuoto p ump S et ( O il richiesto) r otario v acum p ump Rotante p urtare S pisciato 50 Hz: 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Vuoto l imitare 2 papà Corrente massima di evaporazione 80A Lavorando p pressione 6 pa - 4 papà Passare l'aspirapolvere t io me <5 Minimo( 2 Papà) Vuoto m facilità Campo di misura dall'atmosfera a 2*10 -2 mbar Camera S ize Φ 15 0* 12 0 mm (altezza) vetro al quarzo antigraffio Evaporazione t arget S fonte Obbiettivo materiale: corda di carbonio / t fonte di destinazione: corda di carbonio Operazione m metodo Manuale di istruzioni l Peso/ S ize 45 kg/ 39 0mm lunghezza x 31 0 mm di larghezza X 2 90 mm di altezza Potenza S up CA 110 V 60 Hz o CA 220 V 50 Hz Potenza c consumo < 2 000 W Garanzia Garanzia limitata di un anno con supporto del prodotto a vita