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Prodotti
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Macchina per il rivestimento di idrogel da laboratorio personalizzato per la produzione di cerotti per il raffreddamento della febbre
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Obiettivo SrTiO3, 99,99% 2" diametro x 0,25" spessore ceramica-TG-STO-50D0635-US
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Obiettivo SrRuO3 99,9% 2 "dia x 0,25" spessore-TG-SrRuO3-50D06-US5
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Forno CSS a due zone con porta wafer rotante fino a 5x5" a max.800°C
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Lab DC Magnetron Sputtering Coater Machine con obiettivo per rivestimento in metallo nobile
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Macchina per verniciatura a sputtering con magnetron al plasma RF da 2 pollici per film sottili non conduttivi
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centrifuga programmabile ad alta velocità (10k giri / min e 5 "max) con mandrini sottovuoto (coperchio riscaldante opzionale)
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200 C Max. Macchina di rivestimento di pellicola automatico con copertura FON e racla di 140mm
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Sistema di rivestimento di Roll to Transfer con forno di essiccazione per elettrodi della batteria
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macchina per rivestimento di pellicole a batteria piccola di 200 ° C per batteria al litio
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Centrifuga anticorrosiva (8000 rpm e 6 "wafer max.) con accessori completi
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Lab DC/RF Dual-Head Vacuum 2 Inch Magnetron Plasma Coater Machine
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Macchina combinatoria per verniciatura a sputtering al plasma con tre sorgenti di sputtering magnetron da 2'' e alimentazione RF/DC
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Macchina per verniciatura a sputtering con magnetron al plasma RF a 5 teste per la ricerca su film sottili MGI
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Il laboratorio 3 dirige la macchina del rivestimento di polverizzazione del magnetron del plasma da 1 pollice rf con la polverizzazione del magnetron di CC
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Applicatore Film regolabile di micrometro - 150 mm di larghezza
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Macchina con sistema di evaporazione termica a 4 fonti con regolatore di temperatura di precisione
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Applicatore Film micrometro con larghezza regolabile 0 - 150 mm
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Macchina per rivestimento PVD in polvere da laboratorio con fase di sputtering e vibrazione del magnetron CC
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Applicatore Film regolabile di micrometro - 50 mm
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Applicatore Film micrometro di alta qualità doppia lama con larghezza di 150mm
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Forno CSS a due zone da laboratorio per un trattamento termico rapido fino a 3" di diametro e 650ºC.
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Macchina per rivestimento ad evaporazione termica ad alto vuoto ad ultrasuoni con quattro fonti di riscaldamento (10-6 torr)
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Forno CSS da laboratorio a due zone per un trattamento termico rapido fino a 5" di wafer di diametro a max.800°C