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Prodotti
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Magnetron Sputtering Coater |
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Low vacuum |
Magnetron sputtering |
900M(Single target) |
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Plasma sputtering |
900 amd 800(Single target); SD-2000III(Three targets) |
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Thermal evaporation |
800C and 980(Carbon rope, no target head) |
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Magnetron sputtering + thermal evaporation |
900C(Single target), The other case is carbon rope |
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High vacuum |
Magnetron sputtering |
SD-650MH(DC+ DC, DC + RF, RF+ RF) |
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Thermal evaporation |
SD-100AF(Heat evaporation carbon rod, molybdenum boat, tungsten wire bar) |
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Email: David@tmaxcn.com Wechat: 18659217588
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Magnetron Ion Thermal Evaporation Carbon Sputter Coater per la preparazione di campioni SEM
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Materials Science Vacuum Magnetron Ion Sputter Coating Coater
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Spalmatore di rivestimento a sputtering ad evaporazione termica a impulsi sottovuoto con pompa a vuoto
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Sistema di rivestimento automatico portatile per sputtering ionico sottovuoto CC per la preparazione di campioni SEM non conduttivi
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Rivestimento di rivestimento in carbonio evaporante termico sottovuoto per la scienza dei materiali
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Coater per rivestimento sputtering ionico magnetron ad alto vuoto CC o RF
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Lab DC Vacuum Ion Sputtering Coating Coater con dimensioni della camera di 150 * 120 mm
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Due in uno Film Coater: Plasma Sputter e Carbon Evaporation Coating Machine
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Lab DC Magnetron Sputtering Coater Machine con tavola rotante e refrigeratore d'acqua
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Forno CSS a due zone con porta wafer rotante fino a 5x5" a max.800°C
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Macchina di rivestimento per evaporazione termica sottovuoto a temperatura controllata di precisione da laboratorio
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Lab DC Magnetron Sputtering Coater Machine con obiettivo per rivestimento in metallo nobile
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3 Riscaldatore rotante della macchina per verniciatura a polverizzazione al plasma con target (500 °C) inclusi 3 target
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Macchina per verniciatura a sputtering con magnetron al plasma RF da 2 pollici per film sottili non conduttivi
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Lab DC/RF Dual-Head Vacuum 2 Inch Magnetron Plasma Coater Machine
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Macchina combinatoria per verniciatura a sputtering al plasma con tre sorgenti di sputtering magnetron da 2'' e alimentazione RF/DC
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Macchina per verniciatura a sputtering con magnetron al plasma RF a 5 teste per la ricerca su film sottili MGI
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Il laboratorio 3 dirige la macchina del rivestimento di polverizzazione del magnetron del plasma da 1 pollice rf con la polverizzazione del magnetron di CC
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Macchina con sistema di evaporazione termica a 4 fonti con regolatore di temperatura di precisione
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Macchina per rivestimento PVD in polvere da laboratorio con fase di sputtering e vibrazione del magnetron CC
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Forno CSS a due zone da laboratorio per un trattamento termico rapido fino a 3" di diametro e 650ºC.
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Macchina per rivestimento ad evaporazione termica ad alto vuoto ad ultrasuoni con quattro fonti di riscaldamento (10-6 torr)
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Forno CSS da laboratorio a due zone per un trattamento termico rapido fino a 5" di wafer di diametro a max.800°C
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